【神奈川】検査装置用半導体デバイス開発・設計※年間休日120日以上／福利厚生充実

【業務内容】
〇電子線検査装置の電子光学デバイス開発業務を担当していただきます。
・電子線検査装置に搭載する電子光学検査用半導体デバイスの仕様作成、製造・組立（半導体製造メーカーへ委託）、
完成デバイスの評価を担当していただきます。

【募集背景】
電子線検査装置用デバイス開発業務に必要な中核人材または後継人材の確保を目的とした募集となります。

【職場や職務の魅力】
・半導体の微細化に伴い、マスク検査及びウェハの検査に置いても、高分解能で高速の検査装置が必要となります。
電子線検査装置は従来の検査装置よりも高感度の検査が可能となります。電子線検査装置の新規事業において、
電子線検査装置の電子線光学系の開発または、電子線光学系制御電気回路の開発に携わって頂きます。
・部内の様々な分野の専門家と仕事を進めて行くことで、電子光学系以外の技術に関してもスキルアップを図る事が可能です。
・また、最先端の検査技術に触れる事が出来るため、様々な技術的知見を得る事が出来ます。
・将来的には、海外勤務も可能です。

【当社について】
・ニューフレアテクノロジーは、２００２年に東芝機械株式会社から半導体装置事業を継承して創業いたしました。
以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置を
開発・提供し、半導体産業の発展に貢献してまいりました。
・今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、
大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も
急速に高度化・多様化が進んでいます。
・ニューフレアテクノロジーは、半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク
（シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版）に高精度な回路パターンを
形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして
世界中のお客様にご愛用いただいています。
・また、フォトマスクの仕上がりを検査するマスク検査装置や、電気自動車など用途の拡大が期待されるパワー半導体向けの
SiCエピタキシャル成長装置を開発し、お客様から高い評価を頂いてます。 さらに、電子ビームマスク描画装置の次世代機となる
マルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術とマスク検査技術を融合した電子ビームマスク検査装置も開発から
実用化の段階に入ってまいりました。
・これからもニューフレアテクノロジーは、高い技術力を保持し、お客様のニーズに合う半導体製造装置をタイムリーに
提供することで、弊社のビジョンである「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること」を
果たして参ります所存です。

＜必須要件＞ 半導体デバイスの解析、評価経験がある方。 ＜歓迎要件＞ ・半導体プロセスの知識がある方。 ・半導体デバイスの設計・製造経験がある方。 ・英語での技術的なコミュニケーションができる方。