【神奈川】機械設計※年間休日120日以上／福利厚生充実

【業務内容】
当社の主力製品である電子ビームマスク描画装置におけるマスクステージに関する機械設計業務をメインにご担当いただきます。

具体的には以下の業務をお任せいたします。
・電子ビームマスク描画装置の試作開発設計
・生産中止に関する対応や性能改善設計
・製造治工具の試作設計
・試作装置の組み立て業務　B18など

【業務の魅力】
現行の装置だけでなく、次世代・次々世代の装置に関する設計に携わることができ、最先端の装置を自らで設計し、組み立て、
評価するといった一連の流れをすべて担当できますので、モノづくりの楽しさを存分に感じていただける職場です。装置の高精度化および
生産性向上のロードマップに合わせて、既存の製品を改良すべく、新製品の開発にも力を注いでいる職場でもあり、各自の裁量と責任で
主導的に進めることができる環境です。また、真空環境で使用できる部品の設計や磁性など、電子ビームに影響を与える要素を考慮した
材料を扱えるのも特徴です。

【当社について】
・ニューフレアテクノロジーは、２００２年に東芝機械株式会社から半導体装置事業を継承して創業いたしました。
以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置を
開発・提供し、半導体産業の発展に貢献してまいりました。
・今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、
大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も
急速に高度化・多様化が進んでいます。
・ニューフレアテクノロジーは、半導体デバイスの性能と生産性向上の源泉である微細化の要となるフォトマスク
（シリコンウェーハ上に微細な回路パターンを露光転写する際に使用するデバイスの原版）に高精度な回路パターンを
形成する電子ビームマスク描画装置に関して30年以上の開発の歴史を持ち、この分野のリーディングカンパニーとして
世界中のお客様にご愛用いただいています。
・また、フォトマスクの仕上がりを検査するマスク検査装置や、電気自動車など用途の拡大が期待されるパワー半導体向けの
SiCエピタキシャル成長装置を開発し、お客様から高い評価を頂いてます。 さらに、電子ビームマスク描画装置の次世代機となる
マルチビームマスク描画装置や、電子ビーム技術とマスク検査技術を融合した電子ビームマスク検査装置も開発から
実用化の段階に入ってまいりました。
・これからもニューフレアテクノロジーは、高い技術力を保持し、お客様のニーズに合う半導体製造装置をタイムリーに
提供することで、弊社のビジョンである「最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と社会、人類の発展に寄与すること」を
果たして参ります所存です。

＜必須要件＞ ・3D CADを用いた設計・シミュレーションの実務経験がある方　(強度、固有値、温度) ・真空装置設計経験がある方(表面処理)